金属靶材是干什么的 常见的金属靶材有哪些

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一、常见金属靶材的种类

常见的金属靶材包括镁Mg、锰Mn、铁Fe、钴CO、镍Ni、铜Cu、锌Zn、铅Pd、锡Sn、铝AL等。这些金属靶材广泛应用于电子工业领域。

小金属靶材如铟In、锗Ge、镓Ga、锑Sb、铋Bi、镉Cd等，因其独特的物理和化学性质，在特定的应用中也发挥着重要作用。

难熔金属靶材，包括钛Ti、锆Zr、铪Hf、钒V铌Nb、钽Ta、铭Cr、钼Mo、钨W、铼Re，这些金属因其高温稳定性而在某些领域中不可或缺。

贵金属靶材如金Au、银Ag、钯Pd、铂Pt、铱lr、钌Ru、铑Rh、锇Os，因其优异的导电性和耐腐蚀性，被广泛应用于高端电子产品。

半金属靶材如碳C、硼B、碲Te、硒Se等，这些材料因其特殊的物理性质，在某些特定应用中具有独特的优势。

二、金属靶材的应用领域

金属靶材在多个高科技领域中发挥着重要作用，主要包括平板显示器、半导体、太阳能电池和记录媒体等领域。

其中，平板显示器占33.80%，半导体占11.40%，太阳能电池占18.50%，记录媒体占28.60%。

半导体芯片用金属溅射靶材，其作用是为芯片制作传递信息的金属导线。通过高速离子流在高真空条件下轰击不同种类的金属溅射靶材表面，使各种靶材表面的原子一层一层地沉积在半导体芯片的表面上，然后通过特殊加工工艺将沉积在芯片表面的金属薄膜刻蚀成纳米级别的金属线，从而实现信号的传递。

行业用的金属溅射靶材主要有铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯溅射靶材，以及镍铂、钨钛等合金类的金属溅射靶材。铜靶和钽靶通常配合使用，随着晶圆制造向更小制程方向发展，铜导线工艺的应用量增加，因此铜和钽靶材的需求将持续增长。铝靶和钛靶也常配合使用，特别是在汽车电子芯片等领域，仍需大量使用铝和钛靶材。

应用于超大规模集成电路芯片、液晶面板、薄膜太阳能电池制造的物理气相沉积（PVD）工艺，使用铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等金属靶材。